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平面拋光機如何把握磨粒的大小以及拋光運動和軌跡

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平面拋光機如何把握磨粒的大小以及拋光運動和軌跡

發(fā)布日期:2018-04-27 作者: 點擊:

  磨料顆粒大小是指磨料的粒度,用篩子每吋長度上的孔數(shù)表示粒度。因而粒度號數(shù)越大,表示沙粒越細。平面拋光機在操作中磨粒的大小非常重要,并且關(guān)系到工件的最終的拋光效果,磨粒主要是指研磨液,研磨盤里面的顆粒成分,還有水蒸氣顆粒等。

  很多拋光研磨工作者認為,磨粒粒徑越小對拋光越好,但是平面拋光機廠家發(fā)現(xiàn)這不是絕對的,也不是必然的。因為任何一種事物都是適當(dāng)最好,都會有一個最佳點。研磨顆粒也是如此,只有達到一個最佳值時才能達到最佳拋光效果,并不是越小效果就越好,有時候太小了會適得其反。

  一般來說,磨粒尺寸越小,拋光機加工的工件表面粗糙度值越小,但對于固著磨料研磨,磨粒尺寸太小,容易使磨具上的工作面被加工過程產(chǎn)生的磨屑堵塞,至使加工過程無法繼續(xù)進行。

  圓管拋光機廠家提醒,顆粒的材質(zhì),大小,粒徑都是拋光過程中非常重要的,選擇合適的材質(zhì),大小,粒徑的研磨顆??梢蕴岣邟伖庑剩晟茠伖庑Ч?,降低生產(chǎn)成本。

  平面拋光機的拋光運動和軌跡

  在平面拋光機加工中,選擇合理的運動方式以及拋光軌跡是極為重要的一步,拋光運動和拋光軌跡將會直接影響拋光的精度以及生產(chǎn)的效率。所以,平面拋光機在拋光加工運動中,拋光運動和軌跡應(yīng)滿足以下幾點。

  1、在加工工件時,平面拋光機整個拋光運動自始至終都應(yīng)該力求平穩(wěn)。

  2、拋光運動應(yīng)該保證工件能夠均勻地接觸拋光拋光盤的全部表面。

  3、所選用的拋光運動應(yīng)使運動軌跡不斷有規(guī)律地改變方向,盡量避免過早地出現(xiàn)重復(fù)。

  4、在平面拋光機的拋光運動中,研具與工件之間處于浮動的狀態(tài),而不應(yīng)是強制的限位狀態(tài)。

  5、拋光運動應(yīng)保證工件受到均勻拋光即被研工件表面上的每一點所運動的路程應(yīng)盡量相等。

  為了保證平面拋光機平穩(wěn),安裝拋光機的地方要平坦,而且堅固,拋光絕對不能安裝在木質(zhì)地板上。另外,在拋光過程中要使用拋光液,拋光液可以提高拋光效果。


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