拋光機(jī)設(shè)備是一種電動(dòng)工具，拋光機(jī)設(shè)備由底座、拋盤(pán)、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。 電動(dòng)機(jī)固定在底座上，固定拋光盤(pán)用的錐套通過(guò)螺釘與電動(dòng)機(jī)軸相連。拋光織物通過(guò)套圈緊固在拋光盤(pán)上，電動(dòng)機(jī)通過(guò)底座上的開(kāi)關(guān)接通電源起動(dòng)后，便可用手對(duì)試樣施加壓力在轉(zhuǎn)動(dòng)的拋光盤(pán)上進(jìn)行拋光。拋光過(guò)程中加入的拋光液可通過(guò)固定在底座上的塑料盤(pán)中的排水管流入置于拋光機(jī)設(shè)備旁的方盤(pán)內(nèi)。 拋光罩及蓋可防止灰土及其他雜物在機(jī)器不使用時(shí)落在拋光織物上而影響使用效果。

　　工作原理：

　　拋光機(jī)設(shè)備操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響最終觀察到的組織，即不會(huì)造成假組織。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深;后者要求使用最細(xì)的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。

　　解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能小;其次是精拋(或稱(chēng)終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機(jī)設(shè)備拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤(pán)應(yīng)絕對(duì)平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象;濕度太小時(shí)，由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫，潤(rùn)滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會(huì)拋傷表面。為了達(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)速較低，最好不要超過(guò)600r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些，因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕，有待精拋消除。

　　精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤(pán)速度可適當(dāng)提高，拋光時(shí)間以?huà)伒舸謷伒膿p傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場(chǎng)條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見(jiàn)到磨痕。拋光機(jī)設(shè)備拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)，已逐步引起有關(guān)專(zhuān)家的重視。近年來(lái)，國(guó)內(nèi)外在拋光機(jī)設(shè)備的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機(jī)型、新一代的拋光設(shè)備，正由原來(lái)的手動(dòng)操作發(fā)展成為各種各樣的半自動(dòng)及全自動(dòng)拋光機(jī)設(shè)備。